O anel de vedação FFKM de alta temperatura para semicondutores é uma solução de vedação de alto desempenho projetada especificamente para a indústria de semicondutores.
Os anéis de vedação FFKM são de alta pureza e extremamente resistentes a plasma, calor e produtos químicos agressivos, o que pode prolongar a vida útil da vedação, reduzir a contaminação, aumentar o rendimento do wafer e reduzir os custos de produção.
Sobre o anel de vedação FFKM de alta temperatura para semicondutores
O anel de vedação FFKM de alta temperatura para semicondutores é uma solução de vedação de alto desempenho projetada especificamente para a indústria de semicondutores. Os anéis de vedação FFKM são de alta pureza e extremamente resistentes a plasma, calor e produtos químicos agressivos, o que pode prolongar a vida útil da vedação, reduzir a contaminação, aumentar o rendimento do wafer e reduzir os custos de produção.
Soluções de vedação para equipamentos semicondutores (processo úmido)
Processo úmido
O processo de fabricação de semicondutores por via úmida envolve uma ampla variedade de meios químicos e cenários de aplicação complexos, exigindo também uma análise cuidadosa dos custos.
A Hao-o Sealing oferece uma gama de produtos para aplicações de vedação estática, dinâmica e composta, que proporcionam ampla resistência química.
Nossas soluções são aplicadas em diversos processos, como corrosão úmida, CMP (Polimento Químico-Mecânico) e revestimento e revelação de fotorresistentes.
| FFKM | ||||
| Categoria do processo | Processo | Temperatura | Condições de operação | Materiais |
| Processos úmidos | Preparação de wafers | 25~125°C | SC1, SC2, SPM, HF, UPDI | PF75WX00 PF75WX20 PF75KX20 |
| CMP | 25~100°C | KOH, NH3, UPDI | ||
| Fotolitografia | 25~125°C | TMAH, NaOH, H2SO4 + Oxidante, Ácidos orgânicos, NMP, Aminas | ||
| Despir-se | 25~125°C | NMP, MEA, HDMS, DMSO | ||
| Limpeza/Gravação | 25~180°C | HCI,HNO3,H3PO4,HF,UPDI,SC1,SC2,O3 | ||
| Revestimento de cobre | 25~100°C | CuSO4,H2SO4,H2O2 | ||
Principais características do anel de vedação FFKM de alta temperatura para semicondutores
1. Ampla faixa de temperatura: Os anéis de vedação FFKM podem operar em temperaturas extremas, normalmente variando de -51°F a 620°F (-46°C a 327°C), com algumas formulações capazes de suportar temperaturas de até 300°C. Isso os torna adequados para aplicações que envolvem flutuações térmicas significativas.
2. Compatibilidade Química: Os anéis de vedação FFKM possuem excelente resistência a praticamente todos os produtos químicos, com capacidade de suportar mais de 1.800 substâncias diferentes. Isso os torna excelentes para processos de fabricação de semicondutores, especialmente em processos de processamento químico e corrosão altamente agressivos.
3. Baixa emissão de gases e pureza: Os materiais FFKM são conhecidos por suas propriedades de baixa emissão de gases, o que é crucial na fabricação de semicondutores, já que qualquer impureza, por menor que seja, pode arruinar um lote de chips. Eles também mantêm altos níveis de pureza, minimizando o risco de introdução de impurezas em processos sensíveis.
4. Estabilidade Dimensional: Os anéis de vedação FFKM mantêm sua forma e tamanho sob condições extremas, garantindo um desempenho de vedação confiável a longo prazo.
5. Propriedades Mecânicas: Esses anéis de vedação possuem excelente resistência mecânica e resiliência, permitindo um desempenho eficaz tanto em aplicações estáticas quanto dinâmicas. Eles suportam condições de vácuo e oferecem baixo atrito, o que é ótimo para peças móveis.
Soluções de vedação para equipamentos semicondutores (processo térmico)
Processo térmico
Os produtos de vedação Hao-o apresentam excelente resistência à temperatura e desempenho de desgaseificação em processos de alta temperatura, como LPCVD, oxidação, difusão e RTP.
Nossos produtos atendem às exigências dos clientes por materiais de borracha de alto desempenho em condições térmicas extremas.
| FFKM | ||||
| Categoria do processo | Processo | Temperatura | Condições de operação | Materiais |
| Processos térmicos | SACVD | 25~300°C | TEP,TEBO,TEOS,NF3,NH3,O3,O2,N2 | PF75WX40 PH75WX00 PH75TX00 |
| CVD de metal e ALD LPCVD | 25~300°C | Precursores orgânicos, WF6,SiH6,TMA,DMAH,TiCl4,SiH4,HF,Cl2,SiH2Cl3,ClF3,NF3,H2O Vapor,O2,O3 | ||
| Lampanneader RTP | 150~300°C | Radiação IR, O2, Vapor | ||
| Oxidação-difusão | 150~300°C | N2,O2,H2O,HCl,Cl2,B2H6,PH3,BBr3,POCl3 | ||
| cura UV | 150~300°C | N2,O2,O3,Ar | ||
| ALD térmica | 150~300°C | TEOS, SiH4, NH3, SiF4, CF4, NF3 | ||
Benefícios da utilização de anéis de vedação FFKM
1. Maior confiabilidade: A durabilidade dos anéis de vedação FFKM resulta em uma vida útil mais longa, o que reduz as necessidades de manutenção e o tempo de inatividade do equipamento. Essa confiabilidade pode se traduzir em economia de custos a longo prazo.
2. Qualidade aprimorada do produto: Ao minimizar a contaminação do processo, esses anéis de vedação ajudam a melhorar o rendimento e a qualidade do produto, o que é fundamental na fabricação de semicondutores, onde a precisão é crucial.
3. Relação custo-benefício: Embora o FFKM possa ter um custo inicial mais elevado em comparação com outros elastômeros, sua longa vida útil e baixos requisitos de manutenção podem, muitas vezes, reduzir os custos operacionais totais.
Aplicações na fabricação de semicondutores
Os anéis de vedação FFKM são utilizados em diversos processos críticos na indústria de semicondutores, incluindo:
1. Deposição Química de Vapor (CVD).
2. Gravura (úmida e seca).
3. Polimento Químico Mecânico (CMP).
4. Resista à remoção.
5. Deposição de plasma e gás.
Essas aplicações destacam a versatilidade dos anéis de vedação FFKM em ambientes que exigem alto desempenho e confiabilidade.
